新華網上海３月２１日電（記者 張建松）“工欲善其事，必先利其器。”半導體產業的發展離不開裝備制造業的支撐。由于技術門檻高，長期以來，世界半導體裝備制造的高端關鍵設備被國外幾家大公司所壟斷，特別是超高精度的刻蝕設備。
在國家重大科技專項的支持下，中微半導體設備有限公司成功研制生產６５納米到４０納米的介質刻蝕機，并成功打入國際市場，改變了世界關鍵刻蝕設備領域的競爭格局，有力提升了我國半導體產業的國際競爭力。
什么是６５納米到４０納米的介質刻蝕機？與老百姓的生活有什么關系呢？
中微半導體設備有限公司董事長兼首席執行官尹志堯博士形象地解釋說：“如果將第一次工業革命比作‘機械代替人手’的革命，除了宏觀材料、能源動力外，人類發明了機床、銑床、刨床等關鍵設備，打造了一個傳統的‘宏觀加工’工業；６０年前由美國硅谷開始的第二次工業革命就是‘電腦代替人腦’的革命，微觀材料的制造和微觀加工是這次革命的核心技術，我們開發的刻蝕設備就如同微觀加工的機床、銑床、刨床。”
“和‘宏觀加工’不同的是，‘微觀加工’是在頭發絲的幾千分之一的尺度上實現的。一臺等離子體刻蝕設備一年要加工幾十萬億個微觀結構，而加工的精確度，均勻性和重復性卻必須達到頭發絲的幾萬分之一。”尹志堯解釋說。
在日常生活中，幾乎所有的現代化電器都離不開芯片。芯片是集成電路（ＩＣ）的載體。看上去往往只有“指甲蓋”一樣大小的芯片，制造工藝多達數百個步驟，共需要十大類微觀加工設備。光刻機、刻蝕機、化學薄膜機是其中最為關鍵的三個微觀加工設備。
小小的芯片由較大的“晶圓”分割而成。中微公司生產的６５納米到４０納米介質刻蝕機的加工對象就是一個個看上去像“圓碟子”形狀的“晶圓”。
“晶圓的生產加工就好比在這個‘圓碟子’上蓋十幾層的微觀高樓、修建微觀高速公路、構筑微觀立交橋。”尹志堯形象地比喻說，“首先在‘圓碟子’上鋪上一層化學薄膜或金屬薄膜，再涂上一層光刻膠，用光刻機曝光并洗相后曝露出需要加工的表面，再用刻蝕機進行雕琢。目前，我們的刻蝕設備在生產線上可以最小加工６５納米到４０納米的微觀結構。在最新的技術開發中，最小可以刻蝕３２納米到２８納米的微觀結構。”
由于采用了獨特的創新設計，中微半導體刻蝕機既可加工單片“晶圓”，也可以同時加工兩片“晶圓”，而國外的高端刻蝕設備只能加工單片“晶圓”。由于中微刻蝕設備具有較強的芯片加工性能、較小的占地面積、較高的產出效率、較低的成本，在與國際最先進的同類設備“正面交鋒”中，得到了國際半導體芯片廠的廣泛認可。
經過壁壘很高的市場引入期，目前中微刻蝕設備已成功打入國際市場，進入亞洲８家海外客戶的生產線，已加工了１５０多萬片“晶圓”。在國際一流芯片制造廠商生產線上，大量工藝驗證表明，中微產品不僅各項刻蝕性能指標達到國外同類產品的水平，而且同等設備投資的芯片產出效率比國外同類產品高出３０％以上。
經過慎重比較選擇，目前亞洲很多芯片廠都選用了中微公司生產的刻蝕設備。國際上領先的芯片生產廠商也已經給中微批量訂單，中微很快可以達到上億美元的年產值。
中微公司研發的等離子體刻蝕機還先后１０余次在中國、美國、歐洲、新加坡等地獲得知名獎項。包括２００９年美國舊金山由業界權威雜志國際半導體《Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ》頒發的 “２００９ Ｂｅｓｔ Ｐｒｏｄｕｃｔ”獎，這是國際上過去三年中唯一的刻蝕設備領域獲獎產品。
半導體設備研發和制造涉及到５０多個學科和技術專業領域的交叉配合，投入資金大，研制時間長，僅靠風險投資是遠遠不夠的。“中微作為一家由海外歸國人員２００４年創辦的公司，在上海市政府的大力支持下，能承擔國家重大科技專項，我們感到十分榮幸，也深感責任重大。”尹志堯說，“模仿國外技術，我們雖然可以制作同樣的設備，但是遠遠不夠的，也是沒有出路的。我們必須通過技術的自主創新，開發出比國際半導體設備技術超前的產品。”
據介紹，中微公司在刻蝕設備生產領域，除了繼續開發精度更高的納米級芯片生產的刻蝕設備外，還正在開發將廣泛用于以單晶硅為底物的硅通孔刻蝕設備以及用于半導體照明芯片生產的金屬有機化合物沉積設備（ＭＯＣＶＤ），同時積極致力于推動我國半導體設備的部件本土化。
尹志堯說：“國家舉辦‘十一五’重大科技成就展，并將重大科技成果的背后故事展示在老百姓面前，我感到十分及時，也非常有必要，必將會吸引政府和民間更大的投入，也將會吸引更多的年輕人投身到我國科技創新工作中。”
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